サーモ理工-非接触で急速昇温　スポット加熱

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超高真空中やガスフロー中等、各種雰囲気中に設置された試料のみに、ピンポイントで赤外線を照射し、非接触で試料を急速加熱ができます。 真空システムや分析装置に、簡単に取り付け出来ます。 サーモ理工の主力機種です。 高速昇温 ：　最高昇温速度 150℃/sec、1500℃まで約1min クリーン加熱 ：　熱源からのガス発生や電磁誘導の心配無し 局所加熱 ：　試料のみに赤外線を照射、周りを加熱しない 取付自在 ：　各種真空システムに取付可能（ICF70） Si、SiC、グラフェン等試料の高速昇温、アニール 酸化雰囲気中での酸化物結晶生成、薄膜作成 水素中、窒素中の基板の加熱 X線や紫外線照射中試料の昇温 昇温脱離ガス分析装置、XPS、XRD、PLD等分析装置内サンプルの加熱 磁場中加熱、無磁場中加熱 加圧雰囲気中加熱 試料に荷重をかけての加熱 　　　赤外線導入加熱装置は、用途により下記仕様があります。 　超高真空型 　10-9Paの超高真空に対応します。 　高速昇温型 　最高昇温速度 150℃/secの高速昇温ができます。 　大気中加熱型 　大気中に設置した試料に、スポット加熱ができます。 　加圧雰囲気型 　10気圧以下の加圧チャンバー内試料を加熱できます。 　特 殊 仕 様 　GVシリーズの特長を生かし、急速降温、荷重加熱、磁場中加熱など様々なご要望にお応えできます。 　お気軽にお問い合わせください。 　CEマーク適合 　CEマーク適合仕様も製作しております。 原理図 　超高真空型　GVH モデル名 GVH198 GVH298 　赤外線ランプ定格 1kW 2kW 　最高到達温度 1200℃ 1400℃ 　加 熱 面 積 φ20mm 　最大昇温速度 1℃/sec 　最大到達真空度 5×10-9Pa 　冷 却 水 量 1L/min 2L/min 　高速昇温型　GV　/　GVL モデル名 GV154 GV198 GVL298 GVL398 　赤外線ランプ定格 500W 1kW 2kW 3kW 　最高到達温度 1100℃ 1300℃ 1500℃ 1600℃ 　加 熱 面 積 φ14mm φ20mm 　最大昇温速度 100℃/sec 100〜150℃/sec 　最大到達真空度 5×10-7Pa 　冷 却 水 量 1L/min 2L/min 　加圧雰囲気型　GVP モデル名 GVP198 GVP298 　赤外線ランプ定格 1kW 2kW 　最高到達温度 1200℃ 1300℃ 　加 熱 面 積  φ20mm 　最大昇温速度  100℃/sec 　最 大 耐 圧  1MPa以下 　冷 却 水 量 1L/min 2L/min

ラピッドアニール赤外線導入加熱システム GV1 / GV2 下面照射型 赤外線熱処理装置　RTA198 / RTA298 昇温脱離ガス分析装置　GV2H 磁場中試料加熱用赤外線導入加熱システム　GVL298M / GV154M / GV-M1 X線トポグラフ用赤外線導入加熱装置 XPS装置取付例

赤外線導入本体部、マルチポート真空チャンバー、温度制御器等で構成され、高真空中試料の超高速昇温ができます。 真空ポートが多く、多様な実験に使用できます。 試料の出入は、真空チャンバー前面扉の開閉により行えます。 [ 用途 ] ・真空・ガス雰囲気中試料の連続昇温・降温制御 ・試料表面加熱、裏面冷却の急速昇降温試験　（オプション） ・加圧雰囲気中の加熱（オプション） モデル名 GV1 GV2 　赤外線ランプ定格 1kW 2kW 　最高到達温度 1300℃ 1500℃ 　加 熱 面 積 〜φ20mm 　最大昇温速度 100〜150℃/sec 　最大到達真空度 5×10-5Pa 　冷 却 水 量 1L/min 2L/min 赤外線導入加熱装置、小型真空チャンバー、測温試料部、温度制御器等で構成されます。 真空チャンバー内の試料に下面より赤外線を照射し、試料のクリーン加熱、超高速昇温ができます。 チャンバー上部観察窓から昇温中の試料観察・撮影ができます。 モデル名 RTA198 RTA298 　赤外線ランプ定格 1kW 2kW 　最高到達温度 900〜1000℃ 1000〜1300℃ 　加 熱 面 積 〜φ20mm 　最大到達真空度 5×10-3Pa 5×10-5Pa  　冷 却 水 量 1L/min 2L/min   超高真空型赤外線導入加熱装置、超高真空チャンバー、質量分析器、電源・保安回路ユニット、真空排気装置から構成され、高温度に到達した試料から発生する微量ガスの質量分析ができます。 赤外線導入加熱装置は、熱源が真空チャンバー外にあり、ガスの発生がなく、クリーン加熱でき、高精度の分析ができます。 モデル名 GV2H 　赤外線ランプ定格 2kW 　最高到達温度 1500℃ 　加 熱 面 積 φ15mm 　最大到達真空度 5×10-6Pa  　納　入　先 京都大学     磁場中試料の熱処理にも最適三機種の紹介です。 [ 特長 ] ・　赤外線伝送加熱方式のため、試料に電磁誘導の影響を与えない ・　試料のみをピンポイントで加熱でき、磁石壁を加熱しない 真空・ガス雰囲気中の昇温も可能です。 超電導磁石や、各種電磁石への取付ができます。 試料温度1000℃でボア内壁温度は、40℃以下です。       高真空中X線照射中試料を超高温まで昇温します。 (赤外線は、左上斜方向と右下斜方向から、�]線は左、水平向から照射します。) 真空チャンバーは、XYステージ、スイベルステージ、回転ステージに設置されどの角度からでも、試料の昇温、保持、降温状態で結晶構造分析が可能です。 モデル名 GVL298-2S 　赤外線ランプ定格 2kW×2 　最高到達温度 1500℃ 　加 熱 面 積 φ20mm 　最大到達真空度 5×10-4Pa  　納入先：Spring-8       赤外線導入加熱装置は、各種分析装置と組み合わせて使用されております。 左の写真はX線光電子分光装置   XPSへGVL298型を取付した例です。 予備真空チャンバー内試料は、赤外線照射により昇温され、試料に含まれる水分やガスを除去し清浄化します。 試料はトランスファーロッドにより、超高真空中を写真右側のXPS分析室まで移動した後、X線が照射され、表面分析が行われます。