サーモ理工-瞬間アニール炉-卓上型で真空、ガスフロー中加熱
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真空・各種ガス雰囲気での高温アニール装置で、赤外線集光照射による急速昇温、クリーン加熱が簡単にできます。
赤外線放射部、真空チャバー、プログラム温度制御器、安全装置で構成した卓上型赤外線真空炉です。
真空チャンバー型と石英管フランジ型もあります。
 
最高昇温速度 150℃/sec、加熱時間 1500℃まで約1min
熱源からの放出ガスや電磁誘導の影響を与えないクリーン加熱
高温の試料を観察できるオプションも用意しています。
真空中／ガスフロー中での試料アニール
シリコン、SiC等半導体試料や酸化物の熱処理
グラフェン、CNTの加熱
高耐熱金属、セラミックス、複合材料等超高温材料の昇温試験
酸素、水素等のガスフロー中アニール
濡れ性試験
赤外線真空炉IVFシリーズには、下記仕様の製品があります。
　石英管式 IVF-RV型 　ガスフロー中試料加熱に最適です。
　対面照射石英管式 IVF-CV型 　試料の上下から赤外線を照射昇温します。
　固形物、粉体の加熱に。
　集光照射式 IVF-W型 　大きく開くハッチにより試料の出し入れが簡単。
　チャンバーに多数のポートがあり、真空他各種実験に対応。
　面照射式 IVF-P型/PD型 　2インチサイズ試料の加熱用。
 
 
透明石英製炉心管内に試料を設置し、上部から赤外線を照射、昇温します。
熱源の赤外線ランプが炉心管の外にあるため、熱源からの汚染の心配が無く、試料のクリーン加熱ができます。
真空フランジ部分のNW40と1/4パイプ継手を使用して、真空置換後にガスフローしながら試料を加熱することができます。
ユニット追加により、CV型へシステムアップができます。
 
モデル名 IVF198RV IVF298RV
　赤外線ランプ定格 1kW 2kW
　最高到達温度 1400℃ 1600℃
　加 熱 面 積 φ20mm
　最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
　最大到達真空度 5×10-4Pa
　冷 却 水 量 1L/min 2L/min
  IVF298RV　　　　
 
透明石英ガラス製炉心管内に試料を設置し、上下から赤外線を照射、昇温します。
RV型より、さらに高温で加熱できます。
熱源の赤外線ランプが炉心管の外にあるため、熱源からの汚染の心配が無く、試料のクリーン加熱ができます。
立体状固形物や粉体試料の加熱に最適です。
 
モデル名 IVF198CV IVF298CV
　赤外線ランプ定格 1kW 2kW
　最高到達温度 1500℃ 1700℃
　加 熱 面 積 φ10mm×10mm φ15mm×10mm
　最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
　最大到達真空度 5×10-4Pa
　冷 却 水 量 1L/min 2L/min
  IVF298CV　　　
 

８個のポートがついた拡張性の高い真空チャンバーを採用したモデルです。
上面が大きく開き、試料の設置やチャンバー内作業が容易にできます。

モデル名 IVF198W IVF298W
　赤外線ランプ定格 1kW 2kW
　最高到達温度 1300℃ 1500℃
　加 熱 面 積 〜φ20mm
　最大昇温速度 50℃/sec 100℃/sec
　最大到達真空度 5×10-4Pa
　冷 却 水 量 1L/min 2L/min

 

 
 

上部から赤外線を照射するP型、上下両面から加熱するPD型があります。
2インチの試料を、ほぼ均一に昇温することができます。

モデル名 IVF29P IVF29PD IVF39PD
　赤外線ランプ定格 2kW 2kW×2 3kW×2
　最高到達温度 800℃ 1000℃ 1200℃
　加 熱 面 積 φ50mm
　最大昇温速度 20℃/sec 50℃/sec
　最大到達真空度 5×10-4P
　冷 却 水 量 2L/min
　

 

 
IVF29P　　　IVF29P-ill
 
  　　IVF39PD　　　IVF39PD-ill
※ PD型は、床置型になります。